电子行业超纯水设备主要用于半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业等领域，这些行业对于纯水、高纯水、超纯水的需求极大。
随着集成电路集成度的提高和线宽的缩小，对水质的要求也越来越高。中国电子工业部制定了五个级别的电子级水质技术标准，分别是18MΩ·cm、15MΩ·cm、10MΩ·cm、2MΩ·cm、0.5MΩ·cm，用于区分不同的水质级别。
电子、半导体、液晶显示、光伏工业生产过程中，需要使用极为纯净的超纯水。若纯水水质不符合生产工艺用水要求或水质不稳定，则可能影响后续工艺的效果和设备的使用寿命。在光伏行业中，电子管生产中混入杂质会影响电子的发射，从而影响电子管的放大性能和寿命。在显像管和阴极射线管生产中，荧光屏内壁上的荧光物质是由喷涂法或沉淀法制成的，如果配制的纯水中含有超过8ppb的铜元素，会导致发光变色；而当铁含量超过50ppb时，会使得发光变色、变暗、闪烁，并产生气泡、条纹、漏光点等缺陷。
电子工业超纯水的制备工艺主要有三种，它们各有优劣：
1. 传统离子交换树脂工艺的优点是初始投资少，占地空间小，但缺点是需要频繁进行离子再生，消耗大量酸碱，并且对环境有一定破坏。
2. 逆渗透+离子交换设备工艺的初投资略高于离子交换没药树工艺，但离子再生周期较长，所需的酸碱量较单一离子树脂工艺少，是一种较为经济流行的工艺。
3. 反渗透预处理结合电去离子装置工艺是最先进的环保型工艺，无需使用酸碱再生即可持续制备超纯水，对环境无害。然而，其初投资相对于前两种工艺更为昂贵。
电子工业超纯水设备通常包含多介质过滤器、活性炭过滤器、钠离子软化器、精密过滤器等组成的预处理系统，以及RO逆渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱都配备了液位控制系统和高低压水泵的压力保护装置。在线水质检测控制仪表和电气采用PLC可编程控制器，实现了无人值守操作。在工艺选材方面，采用了推荐和客户需求相结合的方法，使得该设备与其他同类产品相比具有更高的性价比和设备可靠性。
电子行业超纯水设备的应用广泛，涉及多个领域，包括：
1. 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路的生产用水。
2. 超纯材料和超纯化学试剂的勾兑用水。
3. 实验室和中试车间的超纯水需求。
4. 汽车、家电表面抛光处理。
5. 光电子产品制造。
6. 其他高科技精微产品的生产。
电子行业超纯水设备的进水指标包括但不限于以下条件：
通常为单级逆渗透或二级反渗透的渗透水。
TEA(总可交换阴离子，以CaCO3计)：\u003c25ppm。
电导率：\u003c40μS/cm。
pH：6.0～9.0。当总硬度低于0.1ppm时，EDI最佳工作的pH范围为8.0～9.0。
温度：5～35℃。
进水压力：\u003c4bar(60psi)。
硬度(以CaCO3计)：\u003c1.0ppm。
有机化合物(TOC)：\u003c0.5ppm。
氧化剂：Cl2\u003c0.05ppm，臭氧\u003c0.02ppm。
变价金属：Fe\u003c0.01ppm，Mn\u003c0.02ppm。
硫化氢：\u003c0.01ppm。
二氧化硅：\u003c0.5ppm。
色度：\u003c5APHA。
二氧化碳的总量：\u003c10ppm。
SDI 15min：\u003c1.0。
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电子行业超纯水设备主要用于半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业等领域，这些行业对于纯水、高纯水、超纯水的需求极大。
概述
随着集成电路集成度的提高和线宽的缩小，对水质的要求也越来越高。中国电子工业部制定了五个级别的电子级水质技术标准，分别是18MΩ·cm、15MΩ·cm、10MΩ·cm、2MΩ·cm、0.5MΩ·cm，用于区分不同的水质级别。
工艺简介
电子、半导体、液晶显示、光伏工业生产过程中，需要使用极为纯净的超纯水。若纯水水质不符合生产工艺用水要求或水质不稳定，则可能影响后续工艺的效果和设备的使用寿命。在光伏行业中，电子管生产中混入杂质会影响电子的发射，从而影响电子管的放大性能和寿命。在显像管和阴极射线管生产中，荧光屏内壁上的荧光物质是由喷涂法或沉淀法制成的，如果配制的纯水中含有超过8ppb的铜元素，会导致发光变色；而当铁含量超过50ppb时，会使得发光变色、变暗、闪烁，并产生气泡、条纹、漏光点等缺陷。
三种工艺比较
电子工业超纯水的制备工艺主要有三种，它们各有优劣：
1. 传统离子交换树脂工艺的优点是初始投资少，占地空间小，但缺点是需要频繁进行离子再生，消耗大量酸碱，并且对环境有一定破坏。
2. 逆渗透+离子交换设备工艺的初投资略高于离子交换没药树工艺，但离子再生周期较长，所需的酸碱量较单一离子树脂工艺少，是一种较为经济流行的工艺。
3. 反渗透预处理结合电去离子装置工艺是最先进的环保型工艺，无需使用酸碱再生即可持续制备超纯水，对环境无害。然而，其初投资相对于前两种工艺更为昂贵。
设备特点
电子工业超纯水设备通常包含多介质过滤器、活性炭过滤器、钠离子软化器、精密过滤器等组成的预处理系统，以及RO逆渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱都配备了液位控制系统和高低压水泵的压力保护装置。在线水质检测控制仪表和电气采用PLC可编程控制器，实现了无人值守操作。在工艺选材方面，采用了推荐和客户需求相结合的方法，使得该设备与其他同类产品相比具有更高的性价比和设备可靠性。
应用领域
电子行业超纯水设备的应用广泛，涉及多个领域，包括：
1. 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路的生产用水。
2. 超纯材料和超纯化学试剂的勾兑用水。
3. 实验室和中试车间的超纯水需求。
4. 汽车、家电表面抛光处理。
5. 光电子产品制造。
6. 其他高科技精微产品的生产。
进水指标
电子行业超纯水设备的进水指标包括但不限于以下条件：
通常为单级逆渗透或二级反渗透的渗透水。
TEA(总可交换阴离子，以CaCO3计)：\u003c25ppm。
电导率：\u003c40μS/cm。
pH：6.0～9.0。当总硬度低于0.1ppm时，EDI最佳工作的pH范围为8.0～9.0。
温度：5～35℃。
进水压力：\u003c4bar(60psi)。
硬度(以CaCO3计)：\u003c1.0ppm。
有机化合物(TOC)：\u003c0.5ppm。
氧化剂：Cl2\u003c0.05ppm，臭氧\u003c0.02ppm。
变价金属：Fe\u003c0.01ppm，Mn\u003c0.02ppm。
硫化氢：\u003c0.01ppm。
二氧化硅：\u003c0.5ppm。
色度：\u003c5APHA。
二氧化碳的总量：\u003c10ppm。
SDI 15min：\u003c1.0。
参考资料
微电子产业加速发展，促进水处理进入提质增效新阶段.搜狐网.2024-11-05
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